mos管的四種類型
mos管的四種類型，與結(jié)型場效應(yīng)管相同，MOS管工作原理動畫示意圖也有N溝道和P溝道兩類，但每一類又分為增強型和耗盡型兩種，因此MOS管的四種類型為：N溝道增強型管、N溝道耗盡型管、P溝道增強型管、P溝道耗盡型管。凡柵極-源極電壓UGS為零時漏極電流也為零的管子均屬于增強型管，凡柵極-源極電壓UGS為零時漏極電流不為零的管子均屬于耗盡型管，所以下面一一介紹mos管的四種類型。
mos管的四種類型-N溝道增強型的結(jié)構(gòu)與工作原理
N溝道增強型MOS管結(jié)構(gòu)
在一塊摻雜濃度較低的P型硅襯底上，制作兩個高摻雜濃度的N+區(qū)，并用金屬鋁引出兩個電極，分別作漏極d和源極s。然后在半導(dǎo)體表面覆蓋一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層，在漏——源極間的絕緣層上再裝上一個鋁電極,作為柵極g。襯底上也引出一個電極B，這就構(gòu)成了一個N溝道增強型MOS管。MOS管的源極和襯底通常是接在一起的(大多數(shù)管子在出廠前已連接好)。它的柵極與其它電極間是絕緣的。
圖(a)、(b)分別是它的結(jié)構(gòu)示意圖和代表符號。代表符號中的箭頭方向表示由P(襯底)指向N(溝道)。P溝道增強型MOS管的箭頭方向與上述相反，如圖(c)所示。
N溝道增強型MOS管的工作原理
（1）vGS對iD及溝道的控制作用
① vGS=0 的情況
從圖1(a)可以看出，增強型MOS管的漏極d和源極s之間有兩個背靠背的PN結(jié)。當(dāng)柵——源電壓vGS=0時，即使加上漏——源電壓vDS，而且不論vDS的極性如何，總有一個PN結(jié)處于反偏狀態(tài)，漏——源極間沒有導(dǎo)電溝道，所以這時漏極電流iD≈0。
② vGS>0 的情況
若vGS＞0，則柵極和襯底之間的SiO2絕緣層中便產(chǎn)生一個電場。電場方向垂直于半導(dǎo)體表面的由柵極指向襯底的電場。這個電場能排斥空穴而吸引電子。
排斥空穴：使柵極附近的P型襯底中的空穴被排斥，剩下不能移動的受主離子(負(fù)離子)，形成耗盡層。吸引電子：將 P型襯底中的電子（少子）被吸引到襯底表面。
（2）導(dǎo)電溝道的形成：
當(dāng)vGS數(shù)值較小，吸引電子的能力不強時，漏——源極之間仍無導(dǎo)電溝道出現(xiàn)，如圖1(b)所示。vGS增加時，吸引到P襯底表面層的電子就增多，當(dāng)vGS達(dá)到某一數(shù)值時，這些電子在柵極附近的P襯底表面便形成一個N型薄層，且與兩個N+區(qū)相連通，在漏——源極間形成N型導(dǎo)電溝道，其導(dǎo)電類型與P襯底相反，故又稱為反型層，如圖1(c)所示。
vGS越大，作用于半導(dǎo)體表面的電場就越強，吸引到P襯底表面的電子就越多，導(dǎo)電溝道越厚，溝道電阻越小。開始形成溝道時的柵——源極電壓稱為開啟電壓，用VT表示。
上面討論的N溝道MOS管在vGS＜VT時，不能形成導(dǎo)電溝道，管子處于截止?fàn)顟B(tài)。只有當(dāng)vGS≥VT時，才有溝道形成。這種必須在vGS≥VT時才能形成導(dǎo)電溝道的MOS管稱為增強型MOS管。溝道形成以后，在漏——源極間加上正向電壓vDS，就有漏極電流產(chǎn)生。
vDS對iD的影響
如圖(a)所示，當(dāng)vGS>VT且為一確定值時，漏——源電壓vDS對導(dǎo)電溝道及電流iD的影響與結(jié)型場效應(yīng)管相似。
漏極電流iD沿溝道產(chǎn)生的電壓降使溝道內(nèi)各點與柵極間的電壓不再相等，靠近源極一端的電壓最大，這里溝道最厚，而漏極一端電壓最小，其值為VGD=vGS－vDS，因而這里溝道最薄。但當(dāng)vDS較?。╲DS
隨著vDS的增大，靠近漏極的溝道越來越薄，當(dāng)vDS增加到使VGD=vGS－vDS=VT(或vDS=vGS－VT)時，溝道在漏極一端出現(xiàn)預(yù)夾斷，如圖2(b)所示。再繼續(xù)增大vDS，夾斷點將向源極方向移動，如圖2(c)所示。由于vDS的增加部分幾乎全部降落在夾斷區(qū)，故iD幾乎不隨vDS增大而增加，管子進(jìn)入飽和區(qū)，iD幾乎僅由vGS決定。
mos管的四種類型-N溝道耗盡型MOS管
（1）結(jié)構(gòu)：
N溝道耗盡型MOS管與N溝道增強型MOS管基本相似。
（2）區(qū)別：
耗盡型MOS管在vGS=0時，漏——源極間已有導(dǎo)電溝道產(chǎn)生，而增強型MOS管要在vGS≥VT時才出現(xiàn)導(dǎo)電溝道。
（3）原因：
制造N溝道耗盡型MOS管時，在SiO2絕緣層中摻入了大量的堿金屬正離子Na+或K+(制造P溝道耗盡型MOS管時摻入負(fù)離子)，如圖1(a)所示，因此即使vGS=0時，在這些正離子產(chǎn)生的電場作用下，漏——源極間的P型襯底表面也能感應(yīng)生成N溝道(稱為初始溝道)，只要加上正向電壓vDS，就有電流iD。
如果加上正的vGS，柵極與N溝道間的電場將在溝道中吸引來更多的電子，溝道加寬，溝道電阻變小，iD增大。反之vGS為負(fù)時，溝道中感應(yīng)的電子減少，溝道變窄，溝道電阻變大，iD減小。當(dāng)vGS負(fù)向增加到某一數(shù)值時，導(dǎo)電溝道消失，iD趨于零，管子截止，故稱為耗盡型。溝道消失時的柵－源電壓稱為夾斷電壓，仍用VP表示。與N溝道結(jié)型場效應(yīng)管相同，N溝道耗盡型MOS管的夾斷電壓VP也為負(fù)值，但是，前者只能在vGS<0的情況下工作。而后者在vGS=0，vGS>0。
mos管的四種類型-p溝道增強型MOS管
（一）P溝道增強型mosfet的結(jié)構(gòu)和工作原理
如圖(1)是P溝道增強型mosfet的結(jié)構(gòu)示意圖．通過光刻、擴(kuò)散的方法或其他手段，在N型襯底(基片)上制作出兩個摻雜的P區(qū)，分別引出電極，稱為源極(s)和漏極(D)，同時在漏極與源極之間的Si02絕緣層上制作金屬，稱為柵極(G)，柵極與其他電極是絕緣的，所以稱為絕緣柵場效應(yīng)管 。圖(2)為P溝道增強型MOS管的電路符號。
正常工作時，P溝道增強型mosfet的襯底必須與源極相連，而漏心極對源極的電壓v璐應(yīng)為負(fù)值，以保證兩個P區(qū)與襯底之間的PN結(jié)均為反偏，同時為了在襯底頂表面附近形成導(dǎo)電溝道。柵極對源極的電壓‰也應(yīng)為負(fù)．
1．導(dǎo)電溝道的形成(VDS=0)
當(dāng)VDS=0時，在柵源之間加負(fù)電壓比，如圖(3)所示，由于絕緣層的存在，故沒有電流，但是金屬柵極被補充電而聚集負(fù)電荷，N型半導(dǎo)體中的多子電子被負(fù)電荷排斥向體內(nèi)運動，表面留下帶正電的離子，形成耗盡層，隨著G、S間負(fù)電壓的增加，耗盡層加寬，當(dāng)v＆增大到一定值時，襯底中的空穴(少子)被柵極中的負(fù)電荷吸引到表面，在耗盡層和絕緣層之間形成一個P型薄層，稱反型層。
如下圖(4)所示，這個反型層就構(gòu)成漏源之間的導(dǎo)電溝道，這時的VGs稱為開啟電壓VGS(th)，啵到vGS(th)后再增加，襯底表面感應(yīng)的空穴越多，反型層加寬，而耗盡層的寬度卻不再變化，這樣我們可以用vGs的大小控制導(dǎo)電溝道的寬度。
2．VDS≠O的情況
導(dǎo)電溝道形成以后，D，S間加負(fù)向電壓時，那么在源極與漏極之間將有漏極電流ID流通，而且ID隨/VDS/而增.ID沿溝道產(chǎn)生的壓降使溝道上各點與柵極間的電壓不再相等，該電壓削弱了柵極中負(fù)電荷電場的作用，使溝道從漏極到源極逐漸變窄，如圖(5)所示．當(dāng)VDS增大到使VGD=VGS(即VDS=VGS一VGS(TH))，溝道在漏極附近出現(xiàn)預(yù)夾斷。
如圖(6)所示．再繼續(xù)增大VDS，夾斷區(qū)只是稍有加長，而溝道電流基本上保持預(yù)夾斷時的數(shù)值，其原因是當(dāng)出現(xiàn)預(yù)夾斷時再繼續(xù)增大VDS，VDS的多余部分就全部加在漏極附近的夾斷區(qū)上,故形成的漏極電流ID近似與VDS無關(guān)。
（二）P溝道增強型mosfet的特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線
圖(7)、(8)分別是P溝道增強型M06管的漏極特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線．漏極特性曲線也可分為可變電阻區(qū)、恒流區(qū)和夾斷區(qū)三部分．轉(zhuǎn)移特性曲線是、，璐使管子工作在漏極特性曲線的恒流區(qū)時所對應(yīng)的ID=F（VGS）曲線：
ID與VGS的近似關(guān)系式為：
mos管的四種類型-P溝道耗盡型MOS管
P溝道MOSFET的工作原理與N溝道MOSFET完全相同，只不過導(dǎo)電的載流子不同，供電電壓極性不同而已。這如同雙極型三極管有NPN型和PNP型一樣。
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